[实用新型]正电子发射断层成像系统有效

专利信息
申请号: 201620680409.7 申请日: 2016-06-30
公开(公告)号: CN205826876U 公开(公告)日: 2016-12-21
发明(设计)人: 陈泽 申请(专利权)人: 上海联影医疗科技有限公司
主分类号: G01T1/164 分类号: G01T1/164;A61B6/03
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201807 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种正电子发射断层成像系统,包括由多个探测单元组成的探测阵列,以及探测阵列监控装置,所述探测单元包括,至少一个闪烁体器件,且至少一个耦合于每一该闪烁体器件的光电转换器件,及设置于每一该闪烁体器件表面的光源装置;所述探测阵列监控装置控制所述光源装置射入闪烁体器件光信号,所述光电转换器件将所述光信号转换为电信号,所述探测阵列监控装置根据该电信号确定探测单元的工作状态。本实用新型提供系统可无需使用放射源即可完成对探测器的质检及校正。
搜索关键词: 正电子 发射 断层 成像 系统
【主权项】:
一种正电子发射断层成像系统,包括由多个探测单元组成的探测阵列,以及探测阵列监控装置,其特征在于:所述探测单元包括,至少一个闪烁体器件,且至少一个耦合于每一该闪烁体器件的光电转换器件,及设置于每一该闪烁体器件表面的光源装置;所述探测阵列监控装置控制所述光源装置射入闪烁体器件光信号,所述光电转换器件将所述光信号转换为电信号,所述探测阵列监控装置根据该电信号确定探测单元的工作状态。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海联影医疗科技有限公司,未经上海联影医疗科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620680409.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top