[实用新型]基质辅助激光解析离子源进样装置

摘要

本实用新型公开了一种基质辅助激光解析离子源进样装置，包括内部具有腔室的中空部件，安装在中空部件内部的Y向平台和安装在Y向平台上的X向平台，放置在安装在X向平台上的靶槽平台上的靶槽，安装在中空部件内部且与X向平台正向相对的顶靶机构和举靶机构，以及安装在中空部件顶部的具有凹槽的盖板；本实用新型通过举靶机构和顶靶机构的运动使得盖板上的凹槽与靶槽平台形成封闭腔室并由真空系统抽真空，以形成过渡真空腔室，可以有效地使得样品进行一个动态的样品对于真空度的适应过程，操作更加灵活和便捷。

主权项

一种基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，包括内部具有腔室的中空部件，安装在所述中空部件内部的Y向平台和安装在所述Y向平台上的X向平台，放置在安装在所述X向平台上的靶槽平台上的靶槽，安装在所述中空部件内部且与所述X向平台正向相对的顶靶机构和举靶机构，以及安装在所述中空部件顶部的盖板；所述盖板上设置有检测孔及样品放置孔，所述样品放置孔处设置有样品盖板；所述X向平台具有固定安装的第一挡块和第二挡块，所述顶靶机构具有与所述第一挡块动态接触的顶靶接触部件，所述举靶机构具有与所述第二挡块动态接触的举靶接触部件，所述举靶接触部件具有举靶接触前部和举靶接触后部，所述第二挡块在进靶过程中与所述举靶接触前部动态接触且在退靶过程中与所述举靶接触后部动态接触；所述举靶机构具有举靶平台，所述举靶平台在进靶过程中向上托举所述靶槽平台且在退靶过程中向下放下所述靶槽及将靶槽放置在所述X向平台上的所述靶槽平台上；所述顶靶机构具有顶靶部件，所述顶靶部件在进靶过程中向上顶起所述靶槽且在退靶过程中向下运动放松所述靶槽。