[实用新型]DMD投影激光直写垂直双面曝光装置有效
| 申请号： | 201620059995.3 | 申请日： | 2016-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN205539923U | 公开（公告）日： | 2016-08-31 |
| 发明（设计）人： | 张伟;赵华;徐巍;王翰文;马汝治 | 申请（专利权）人： | 江苏影速光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 徐州市三联专利事务所 32220 | 代理人： | 周爱芳 |
| 地址： | 221000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种DMD投影激光直写垂直双面曝光装置，包括基座（4）和投影光路（5），还包括滑移座（6），基座（4）内部中空，基座（4）底部表面设有供滑移座（6）水平滑动的轨道（3），轨道（3）位于基座（4）的两个侧壁中间位置，滑移座（6）底部开设有与轨道（3）外形相适配的凹槽，滑移座（6）通过底部的凹槽与轨道（3）滑动连接，滑移座（6）内侧面设有纵向夹持部（2），投影光路（5）设置在基座（4）的两个侧壁上，投影光路（5）为DMD投影光路。有益效果是：能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了产能，增加了工作的效率，投影光路采用DMD投影光路，使得曝光效果更好。 | ||
| 搜索关键词： | dmd 投影 激光 垂直 双面 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种DMD投影激光直写垂直双面曝光装置，包括基座（4）和投影光路（5），其特征在于，还包括滑移座（6），基座（4）内部中空，基座（4）底部表面设有供滑移座（6）水平滑动的轨道（3），轨道（3）位于基座（4）的两个侧壁中间位置，滑移座（6）底部开设有与轨道（3）外形相适配的凹槽，滑移座（6）通过底部的凹槽与轨道（3）滑动连接，滑移座（6）内侧面设有纵向夹持部（2），投影光路（5）设置在基座（4）的两个侧壁上，投影光路（5）为DMD投影光路。
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