[实用新型]实时变参量微纳米光场调制与光刻系统有效
| 申请号： | 201620007579.9 | 申请日： | 2016-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN205942088U | 公开（公告）日： | 2017-02-08 |
| 发明（设计）人： | 叶燕;许峰川;魏国军;许宜申;浦东林;陈林森 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)32256 | 代理人： | 王锋 |
| 地址： | 215123 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种实时变参量微纳米光场调制与光刻系统，该光场调制系统包括光源、4F光学系统和光波调制光学元器件组，4F光学系统包括沿光路依次设置的第一光学组件和第二光学组件，光波调制光学元器件组设置于第一光学组件和第二光学组件之间，该光波调制光学元器件组通过对子波面分段调制，在系统的后焦面产生图案及结构参数可调的光场分布。本实用新型通过子元件实现对子波面的分立、实时调控，通过改变子元件组合方式可实现不同微纳米图案的实时输出，通过子元件的位置或子元件间相对位置变化可实现结构参数的连续调制。该系统可灵活集成于各种光刻或显微系统中，实现变参量微纳米结构的实时写入和可调制微纳米结构光检测。 | ||
| 搜索关键词： | 实时 参量 纳米 调制 光刻 系统 | ||
【主权项】：
一种实时变参量微纳米光场调制系统，其特征在于，包括光源、4F光学系统和光波调制光学元器件组，所述4F光学系统包括沿光路依次设置的第一光学组件和第二光学组件，所述光波调制光学元器件组设置于所述第一光学组件和第二光学组件之间，该光波调制光学元器件组通过对子波面分段调制，在系统的后焦面产生图案及其结构参数可调的光场分布。
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