[发明专利]一种精确测量二维面内位置与位置变化的装置和方法

摘要

本发明公开了一种精确测量二维面内位置与位置变化的装置和方法，测量装置包括光源、透明导电层、光敏电阻层、电阻层、电源、电压表。当光照射到透明导电层上时，光通过透明导电层到达光敏电阻层，被光照射到的光敏电阻层阻值急剧减小，使得光照处透明导电层与电阻层导通，透明导电层光照点处所对应电压即为电阻层相应光照点处所对应电压。此时通过测量透明导电层及电阻层上光照点位置到其各自导电条之间的电压值，计算出平面内光照点位置的X坐标与Y坐标，最终得到光照点的位置。当光照点移动，测得的电压值发生变化，可换算出相应的位置变化。该方法和装置具有结构和原理简单、成本低廉的优点，可被用于监测、精密测量及自动化控制等领域。

主权项

1.一种精确测量二维面内位置与位置变化的装置，其特征在于，包括光源(1)、透明导电层(2)、光敏电阻层(3)、电阻层(4)、第一电源(5)、第二电源(6)和电压表(7)；所述的透明导电层(2)、光敏电阻层(3)和电阻层(4)依次层叠设置；所述的透明导电层(2)和电阻层(4)的两端分别镀有导电条作为正负电极引出端，且透明导电层(2)的两条导电条和电阻层(4)的两条导电条位置相互垂直；所述的第一电源(5)的两个接线端分别连接透明导电层(2)的两导电条；所述的第二电源(6)的两个接线端分别连接电阻层(4)的两导电条；所述电压表(7)的两端分别连接透明导电层(2)的一个导电条和电阻层(4)的一个导电条；所述的光源(1)与透明导电层(2)相对设置；光源(1)射出的光照射到透明导电层(2)，光会透过透明导电层(2)到达光敏电阻层(3)，光敏电阻层(3)受到光照电阻急剧减小，使得光照处透明导电层(2)与电阻层(4)导通。