[发明专利]不易产生划痕的低辐射单银镀膜玻璃在审
| 申请号： | 201611216319.3 | 申请日： | 2016-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN106495504A | 公开（公告）日： | 2017-03-15 |
| 发明（设计）人： | 邓君;崔伏球;汪涛 | 申请（专利权）人： | 重庆物华天宝镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 重庆市前沿专利事务所(普通合伙)50211 | 代理人： | 郭云 |
| 地址： | 402560 重庆市*** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种不易产生划痕的低辐射单银镀膜玻璃，包括浮法玻璃基片，其特征在于在所述浮法玻璃基片的上表面由下到上依次镀有第一Si3N4层、第一Zr‑AZO层、第一NiCr层、Ag层、第二NiCr层、第二Zr‑AZO层、第二Si3N4层、C层。本发明采用Zr惨杂的AZO作为阻挡层，增强AZO薄膜的光电性能，提高附着力，提高稳定性，在表面设置C层，具有提高玻璃基片表面膜层的整体耐划伤性能，提高机械性能的作用。本发明的镀膜玻璃具有较好粘结性、机械强度好、不容易产生划痕、光电特性好，薄膜稳定性好的特点，适合大规模生产。 | ||
| 搜索关键词： | 不易 产生 划痕 辐射 镀膜 玻璃 | ||
【主权项】：
一种不易产生划痕的低辐射单银镀膜玻璃，包括浮法玻璃基片，其特征在于：在所述浮法玻璃基片的上表面由下到上依次镀有第一Si3N4层、第一Zr‑AZO层、第一NiCr层、Ag层、第二NiCr层、第二Zr‑AZO层、第二Si3N4层、C层。
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