[发明专利]一种快速计算电大尺寸目标电磁散射特征的方法在审

专利信息
申请号: 201611099584.8 申请日: 2016-12-02
公开(公告)号: CN106529082A 公开(公告)日: 2017-03-22
发明(设计)人: 郭良帅;梁子长;高鹏程;林云 申请(专利权)人: 上海无线电设备研究所
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙)31249 代理人: 朱成之
地址: 200090 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种快速计算电大尺寸目标电磁散射特征的方法,利用射线追踪完成入射电磁场激励下不同面片的耦合区域,然后用矩量法填充附近子区域和耦合区域的阻抗矩阵,非附近子区域和非耦合区域的阻抗矩阵置零。由于每个贴片单元的附近组基函数个数和耦合区域基函数个数较小,整个阻抗矩阵稀疏化程度高,极大的节省了内存空间和计算时间。本发明适应性强、计算精度高,极大的拓展了矩量法计算电大尺寸目标的计算效率。
搜索关键词: 一种 快速 计算 电大 尺寸 目标 电磁 散射 特征 方法
【主权项】:
一种快速计算电大尺寸目标电磁散射特征的方法,其特征在于,包含如下步骤:S1,通过测绘获取目标几何外形,然后利用三角形贴片剖分目标表面,描述电磁流在目标上的感应电磁场分布;S2,在三角形贴片上利用局部基函数建立局部基函数,然后确定每个基函数及附近组的基函数编号;S3,建立kd树结构,利用射线追踪建立每个入射角度下三角形贴片对应的三次耦合贴片或区域,建立不同三角形贴片间的耦合对应关系;S4,利用电磁场积分方程矩量法建立阻抗矩阵,每一个基函数仅建立附近组和强耦合组的阻抗元素,其他区域置零或不存储,形成稀疏程度高的阻抗矩阵;S5,利用Gmres算法开展子域上的电磁流矩阵方程的迭代计算,求解步骤S1中每个贴片单元上的感应电磁流系数,进而计算散射场。
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