[发明专利]用于超大规模集成电路设备的经优化的波长光子发射显微镜在审

专利信息
申请号: 201611048107.9 申请日: 2016-10-08
公开(公告)号: CN106842537A 公开(公告)日: 2017-06-13
发明(设计)人: H·德朗德 申请(专利权)人: FEI公司
主分类号: G02B21/36 分类号: G02B21/36;G01R31/311;G01R31/28;G01R31/265
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 王英,刘炳胜
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于对半导体设备(DUT)进行发射测试的方法,通过将DUT安装到发射测试器的测试工作台上,所述发射测试器具有光学探测器;将DUT电连接至电测试器;将电测试信号施加至DUT,同时保持测试参数恒定;将光学滤波器插入到发射测试器的光学路径中,并收集来自光学探测器的发射测试信号;将光学滤波器从光学路径中移除,并收集来自光学探测器的发射测试信号。比较在有和没有滤波器的情况下所获得的图像。滤波器可以是短通的以获得发射信号、带通的以用于检测正向偏置、或者长通的以获得热信号。
搜索关键词: 用于 超大规模集成电路 设备 优化 波长 光子 发射 显微镜
【主权项】:
一种用于测试集成电路(DUT)的方法,包括:将所述DUT放置在测试器上,所述测试器具有定义光学路径的光学布置并且具有成像器;将光学滤波器插入到所述光学路径中,所述光学滤波器被配置为阻挡在定义的截止波长之外的光到达所述成像器;对通过所述光学滤波器的、来自所述DUT的光子发射进行成像;从所述光学路径中移除所述光学滤波器,并且在没有所述光学滤波器的情况下对来自所述DUT的光子发射进行成像;比较在有和没有所述光学滤波器的情况下的所述成像,从而识别在所述DUT内的元件的具体故障类型。
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