[发明专利]一种阴沟结构在审

专利信息
申请号: 201611018790.1 申请日: 2016-11-18
公开(公告)号: CN106436870A 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 税显治 申请(专利权)人: 税显治
主分类号: E03F3/04 分类号: E03F3/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 646200 四川省*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种阴沟结构,包括埋设在地面下的阴沟主体和设于阴沟主体顶部的阴沟盖板,阴沟主体侧壁的顶部高于两侧的地面,所述阴沟盖板上设有连通所述阴沟主体两侧地面的雨水渡槽,且该雨水渡槽的内底表面与所述阴沟主体两侧的地面位于同一水平面上,所述阴沟主体的侧壁顶部上设有与雨水渡槽对应的凹槽。本发明的结构简单、设计合理,可在阴沟的每隔一定的距离设置一个雨水渡槽,一般两相邻雨水渡槽的间隔为20米为宜,这样可以使得场地内的雨水畅通无阻,阴沟的大范围使用也不会导致场地积水,同时也免去了对阴沟的线路规划重新设计的麻烦。
搜索关键词: 一种 阴沟 结构
【主权项】:
一种阴沟结构,包括埋设在地面下的阴沟主体和设于阴沟主体顶部的阴沟盖板,阴沟主体侧壁的顶部高于两侧的地面,其特征在于:所述阴沟盖板上设有连通所述阴沟主体两侧地面的雨水渡槽,且该雨水渡槽的内底表面与所述阴沟主体两侧的地面位于同一水平面上,所述阴沟主体的侧壁顶部上设有与雨水渡槽对应的凹槽,另外,所述阴沟盖板不设检修孔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于税显治,未经税显治许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611018790.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top