[发明专利]青椒高产种植方法在审

专利信息
申请号: 201611016898.7 申请日: 2016-11-18
公开(公告)号: CN108370919A 公开(公告)日: 2018-08-07
发明(设计)人: 邓宪亮 申请(专利权)人: 邓宪亮
主分类号: A01G22/05 分类号: A01G22/05
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 442600 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明青椒高产种植方法属于农业种植技术领域,青椒的种子育苗时间长,冬季育苗时由于温度较低,如果过早播种,极易出现烂种、死苗和僵苗现象,如果不能针对其特性进行种植,不仅可能造成一定的资源浪费,还会影响青椒的质量和品质,本发明公开了一种青椒的种植方法,青椒高产种植方法,包括以下步骤:育苗、定植、定植后管理、肥水管理、温度管理、植株管理、病虫害防治、采收。
搜索关键词: 青椒 高产种植 定植 冬季育苗 肥水管理 农业种植 温度管理 植株管理 种子育苗 病虫害防治 采收 僵苗 种植 播种 育苗 管理
【主权项】:
1.青椒高产种植方法,其特征是包括以下步骤:a育苗,将青椒种子用55℃的温水浸种70分钟后,在28℃的催芽箱中催芽,90%的种子露白后播种,播后盖土1cm,均匀浇水至基质含50%的水分即可,保持日光温室内温度15‑30℃,移栽前控制日光温室内温度为13‑24℃,每日通风5小时;b定植,在幼苗成熟后,按照株距40cm、行距60cm的种植要求,以每亩1800株的密度定植即可;c定植后管理,定植后7天内,控制温度在15‑25℃,湿度为90‑95%,每天通风6小时;d肥水管理,定植成活后,根据外界环境调节浇水量,保持土地湿度为60‑70%,适当喷施磷肥和草木灰浸液,能调节植株的发育状态,促进花开、果实膨大和植株分枝,使其充分吸收营养,优化青椒的纤维品质;e温度管理,调节温度保证日光温室内温度为,白天22‑26℃,晚上15‑20℃,土壤温度为14‑18℃;f植株管理,在植株生长过程中留选2条健壮的主枝,侧枝和侧芽需要及时抹除,主枝可根据需要设置吊绳或支架辅助定位,出果后,交叉留果,保证每株同时结果不超过6个,及时摘除下端老叶;g病虫害防治,在育苗过程中2‑4片真叶,喷施0.2%的高效有机硅复合剂的1200倍稀释液;h采收,当青椒果实停止膨大后在清晨采收,采收后保鲜存放即可。
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