[发明专利]一种多种细胞图案化共培养的装置及方法有效
| 申请号： | 201610985080.X | 申请日： | 2016-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN106479893B | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 赵亮;张美芹;郭腾飞;王丽蓉 | 申请（专利权）人： | 北京科技大学 |
| 主分类号： | C12M3/04 | 分类号： | C12M3/04;C12N5/09;C12N5/071 |
| 代理公司： | 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 | 代理人： | 张仲波 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种多种细胞图案化共培养的装置及方法，在胶带上利用打孔针打孔形成微米级孔的阵列作为模板，在所述模板上直接浇灌聚二甲基硅氧烷得到内部有微米级柱子阵列的通道，所述聚二甲基硅氧烷印设置在所述细胞培养皿或培养板基底上，所述细胞培养皿或培养板基底的基底表面不做处理，或孵育一层鼠尾胶原，从而构成培养装置，并且给出了利用该装置进行细胞培养的方法，本发明所提供的装置及方法不需要光刻技术，只需胶带、打孔针、刻刀以及聚二甲基硅氧烷就可以制备，可以用于任何一种细胞的图案化，多种细胞共培养，打破了传统微流控芯片制备对于光刻技术的限制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多种 细胞 图案 培养 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种多种细胞图案化共培养的装置，其特征在于，包括：聚二甲基硅氧烷印及细胞培养皿或培养板基底；在胶带上利用打孔针打孔形成微米级孔的阵列作为模板，在所述模板上直接浇灌聚二甲基硅氧烷得到内部有微米级柱子阵列的通道，揭下所述胶带形成所述聚二甲基硅氧烷印，所述柱子的直径为100‐800μm；所述聚二甲基硅氧烷印设置在所述细胞培养皿或培养板基底上；所述细胞培养皿或培养板基底的基底表面不做处理，或孵育一层鼠尾胶原。
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