[发明专利]基于纳米盘阵列结构的光学超材料吸收器在审
| 申请号： | 201610979423.1 | 申请日： | 2016-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN106572624A | 公开（公告）日： | 2017-04-19 |
| 发明（设计）人： | 王建国;朱美萍;孙建;易葵;邵建达 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司31213 | 代理人： | 张泽纯,张宁展 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种基于纳米盘阵列结构的光学超材料吸收器，包括玻璃衬底，其特征是在玻璃衬底上依次沉积氮化钛薄膜、氧化铟锡薄膜和阵列的盘状氮化钛纳米盘，所述的氮化钛薄膜的厚度t3的取值范围不小于200nm，氧化铟锡薄膜的厚度t2的取值范围为45nm‑55nm，氮化钛nm盘的厚度t1的取值范围为40nm‑60nm，所述的氮化钛纳米盘的中心间距P的取值范围为450nm‑550nm，纳米盘的直径d的取值范围为240nm‑320nm。本发明超材料吸收器具有吸收效率高，结构简单等优点，在550nm到650nm的波段范围的平均吸收率大于95％。可以应用于生物传感器，探测器和光伏器件等。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 纳米 阵列 结构 光学 材料 吸收 | ||
【主权项】：
一种基于纳米盘阵列结构的光学超材料吸收器，包括玻璃衬底，其特征是在玻璃衬底上依次沉积氮化钛薄膜、氧化铟锡薄膜和阵列的盘状氮化钛纳米盘，所述的氮化钛薄膜的厚度t3的取值范围为不小于200nm，氧化铟锡薄膜的厚度t2的取值范围为45nm‑55nm，氮化钛nm盘的厚度t1的取值范围为40nm‑60nm，所述的氮化钛纳米盘的中心间距P的取值范围为450nm‑550nm，纳米盘的直径d的取值范围为240nm‑320nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所，未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610979423.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
