[发明专利]一种喷涂型低吸收低发射热控涂层及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201610966168.7 申请日: 2016-10-31
公开(公告)号: CN106566408B 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 张家强;白晶莹;崔庆新;王兵存;平托;吕伟娜;马刚;于金花;周华珍;吴琼;贺光辉;张学 申请(专利权)人: 北京卫星制造厂
主分类号: C09D183/06 分类号: C09D183/06;C09D167/00;C09D133/00;C09D127/12;C09D7/61;C09D7/63
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 张丽娜
地址: 100190*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种喷涂型低吸收低发射热控涂层及其制备方法和应用,属于航天器热控涂层技术领域。本发明的一种具备低吸收、低发射特性的喷涂型热控涂层的制备方法,该方法可以将涂层以喷涂的方式直接在航天器外表面喷涂实施,实现低吸收、低发射性能。一方面减少太阳辐照对航天器内部温度的影响,同时减少航天器向空间环境的辐射漏热,对维持航天器在长周期探测活动中的适宜温度具有重要作用。
搜索关键词: 一种 喷涂 吸收 发射 涂层 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种应用于航天器热控涂层的喷涂型低吸收低发射热控涂层,其特征在于:以该热控涂层中的粘结剂质量为100份计算,热控涂层中其他组成及质量份数如下:所述的粘结剂为二羟基有机硅树脂;所述的填料为片状铝粉;所述的防沉降改性剂为KH550硅烷改性偶联剂;所述的催化剂为二月桂酸二丁基锡;所述的固化剂为正硅酸乙酯;所述的溶剂为乙酸丁酯;该喷涂型低吸收低发射热控涂层的制备方法,步骤包括:(1)将铝粉和KH550加入到溶剂中,并分散均匀,分散时采用机械搅拌的方式,搅拌速度为500转/min,分散时间为1.5h;(2)在步骤(1)得到的体系中加入二羟基有机硅树脂,并搅拌均匀,搅拌速度为200转/min,搅拌时间为1h;(3)在步骤(2)得到的体系中加入二月桂酸二丁基锡和正硅酸乙酯,并搅拌均匀,搅拌速度为200/min,搅拌时间为30min,得到漆料;(4)对步骤(3)得到的漆料采用200目铜网过滤后得到可喷涂的低吸收低发射型热控涂层漆料;将得到的可喷涂的低吸收低发射型热控涂层漆料采用喷涂的方式施工在铝合金的外表面,固化时间为室温固化72h,对固化后的涂层进行热辐射性能测试,测试结果为热控涂层对太阳光的吸收率为0.20,半球发射率为0.20。
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