[发明专利]一种超宽带红外截止滤光膜的制备方法在审
| 申请号： | 201610945130.1 | 申请日： | 2016-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN106443856A | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 冷健;季一勤;刘华松;刘丹丹;刑宇哲 | 申请（专利权）人： | 天津津航技术物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28 |
| 代理公司： | 中国兵器工业集团公司专利中心11011 | 代理人： | 刘东升 |
| 地址： | 300308 天津市*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种超宽带红外截止滤光膜的制备方法，包括步骤：基片清洁，基片加热，基片预清洗，膜系结构确定，基片材料选择锗，高折射率镀膜材料为Ge，低折射率镀膜材料为ZnS，采用双面镀膜方式实现红外截止滤光膜的制备，两面的膜系结构均为：Sub/(αiHβiL)m/Air，i＝1，2，…，m；m≥10；其中，H、L分别代表1/4波长光学厚度的高折射率膜层Ge和低折射率膜层ZnS；αi，βi为1/4波长光学厚度倍数，其数值大小与参考波长直接相关，并且0.1≤αi/βj≤20，i,j＝1，2，…，m；m≥10；膜系镀制，根据膜系结构，对基片第一面和第二面的各膜层依次进行镀制。本发明制得的膜层稳定，光谱性能好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 宽带 红外 截止 滤光 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种超宽带红外截止滤光膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1：基片清洁对待镀膜零件表面进行清洁；S2：基片加热镀膜前对镀膜零件进行烘烤加热，提高基片温度；S3：基片预清洗镀膜前用离子源对镀膜零件进行预清洗；S4：膜系结构确定基片材料选择锗，高折射率镀膜材料为Ge，低折射率镀膜材料为ZnS，采用双面镀膜方式实现红外截止滤光膜的制备，两面的膜系结构均为：Sub/(αiHβiL)m/Air，i＝1，2，…，m；m≥10其中，H、L分别代表1/4波长光学厚度的高折射率膜层Ge和低折射率膜层ZnS；αi，βi为1/4波长光学厚度倍数，其数值大小与参考波长直接相关，并且0.1≤αi/βj≤20，i,j＝1，2，…，m；m≥10。S5：膜系镀制根据步骤S4中的膜系结构，对基片第一面和第二面的各膜层依次进行镀制。
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