[发明专利]一种电位滴定测定硅钙合金中钙含量的方法在审
| 申请号： | 201610898932.1 | 申请日： | 2016-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN106404997A | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | 赵琎;赵艳兵;曹吉祥;戴学谦 | 申请（专利权）人： | 山西太钢不锈钢股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N31/16 | 分类号： | G01N31/16 |
| 代理公司： | 太原市科瑞达专利代理有限公司14101 | 代理人： | 申艳玲 |
| 地址： | 030003 山*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电位滴定测定硅钙合金中钙含量的方法。本发明利用自动电位滴定仪，采用铜离子选择电极，实现硅钙合金中钙含量的准确测定；试样采用硝酸(浓)‑氢氟酸溶解，高氯酸冒烟一次，氨水分离一次，与国标GB/T 4700.2‑1988相比，简化了溶样分离过程，但溶样效果一致。根据自动电位滴定仪利用电位突跃自动判定终点，减小人为判定终点带来的误差，提高了分析结果的精密度和准确度；使用铜离子选择电极代替钙离子选择电极，延长了电极的使用寿命，节约了分析成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电位 滴定 测定 合金 含量 方法 | ||
【主权项】：
一种电位滴定测定硅钙合金中钙含量的方法，其特征在于：利用自动电位滴定仪，采用铜离子选择电极，实现硅钙合金中钙含量的准确测定；包括以下步骤：（1）将试样置于聚四氟乙烯烧杯中，加入硝酸、氢氟酸溶样，高氯酸冒烟；（2）然后加入氢氧化铵形成沉淀过滤干扰离子，测定滤液；（3）利用铜离子选择电极对铜的响应来间接测定钙。
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