[发明专利]一种CrO2纳米晶阵列结构的水热制备方法有效
申请号: | 201610886945.7 | 申请日: | 2016-10-12 |
公开(公告)号: | CN106282976B | 公开(公告)日: | 2018-12-07 |
发明(设计)人: | 温戈辉;王晓玲 | 申请(专利权)人: | 吉林大学 |
主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12;C25D11/26 |
代理公司: | 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 | 代理人: | 王恩远 |
地址: | 130012 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的一种CrO2纳米晶阵列结构的水热制备方法,属于水热合成纳米材料的技术领域。技术方案是:先用阳极氧化法在Ti片表面制备出TiO2纳米管阵列,然后超声得到Ti/TiO2纳米凹坑阵列基底;配置CrO3质量分数为0.44%~2.2%的水溶液放入反应釜中,将基底置入溶液里,通入高压纯氧,密封反应釜;以一定的升温速度使釜内溶液温度升至400℃,并保温60min;待自然冷却,即在基底上生长出CrO2纳米晶阵列纳米结构。本发明具有工艺简单,操作容易,能较容易的进行工业化生产的特点,用这种方法制备的CrO2纳米晶阵列纯度较高,能应用于磁存储领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 cro2 纳米 阵列 结构 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种CrO2纳米晶阵列结构的水热制备方法,有如下步骤:步骤一、利用阳极氧化法在Ti片表面制备TiO2纳米管阵列,将表面生长了TiO2纳米管阵列的Ti片于0~60min内放在去离子水中,超声10~60min,移除表面的TiO2纳米管,得到具有纳米凹坑阵列表面的Ti/TiO2基底;步骤二、以CrO3为原料配置水溶液,质量分数为0.44%~2.2%之间;将CrO3水溶液放入反应釜中,CrO3溶液占釜腔体积的40%~80%,将具有纳米凹坑阵列表面的Ti/TiO2基底放置在溶液里;然后通入高压纯氧,至釜内氧气压强为10~15MPa,密封反应釜;步骤三、加热反应釜使釜内溶液温度升至400℃,在400℃保温1小时;步骤四、反应釜自然冷却,取出基底,用去离子水清洗,自然晾干,即在具有纳米凹坑阵列表面的Ti/TiO2基底上长出CrO2纳米晶阵列。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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