[发明专利]一种石墨烯薄膜的目标基底及其制备方法、石墨烯薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201610881802.7 申请日: 2016-10-09
公开(公告)号: CN106564226B 公开(公告)日: 2019-01-18
发明(设计)人: 王小蓓;秦喜超;谭化兵 申请(专利权)人: 无锡格菲电子薄膜科技有限公司
主分类号: B32B9/00 分类号: B32B9/00;B32B9/04;B32B7/12;B32B17/06;B32B27/28;B32B27/30;B32B27/32;B32B27/36;H01B13/00;C09J7/20;C09J139/06
代理公司: 北京世衡知识产权代理事务所(普通合伙) 11686 代理人: 肖淑芳
地址: 214174 江苏省无锡市惠山经*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种石墨烯薄膜的目标基底,为基底膜/胶膜的复合结构,所述胶膜内含有聚乙烯吡咯烷酮。本发明采用在目标基底上涂布一层含有聚乙烯吡咯烷酮的胶水,形成一层薄薄的胶膜,在胶膜表面转移单层石墨烯,得到石墨烯复合膜,石墨烯与目标基底的附着力会有较大的提升,并且石墨烯膜的方阻也有所下降,可降至180Ω/□,用剥离力为5N的胶带粘在石墨烯表面撕扯,石墨烯没有损坏。
搜索关键词: 一种 石墨 薄膜 目标 基底 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种石墨烯薄膜的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:1)将胶膜其中带胶的一面与生长有石墨烯的金属衬底的石墨烯一面贴合在一起;2)去除金属衬底,得到胶膜/石墨烯的结构;3)将步骤2)得到的胶膜/石墨烯复合膜的石墨烯一面与胶膜/基底膜的胶面贴合在一起,形成胶膜/石墨烯/胶膜/基底膜的结构;4)揭除表面的胶膜,得到石墨烯/胶膜/基底膜的复合结构;其中,所述基底膜/胶膜采用如下方法制备而成:将基底膜上涂布一层含有聚乙烯吡咯烷酮的溶液,固化,形成基底膜/胶膜的复合结构;所述聚乙烯吡咯烷酮溶液的溶剂为可溶解聚乙烯吡咯烷酮的有机溶剂,所述聚乙烯吡咯烷酮溶液中含有20%的聚乙烯吡咯烷酮,所述有机溶剂为热固化胶水或UV固化胶水,所述涂布聚乙烯吡咯烷酮溶液的厚度为500nm‑10μm。
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