[发明专利]曝光装置、曝光方法和器件的制造方法在审
| 申请号： | 201610870966.X | 申请日： | 2016-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN106560745A | 公开（公告）日： | 2017-04-12 |
| 发明（设计）人： | 籔伸彦 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 宿小猛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及曝光装置、曝光方法和器件的制造方法。该曝光装置用于在移动基板P和掩模M的同时执行基板P的扫描曝光，该曝光装置具有被配置为用曝光光对掩模M进行照明的照明光学系统IL和被配置为将掩模M的图案投影到基板O上的投影光学系统PO，该曝光装置包括被配置为用测量光照射标记的测量光源(13)；被配置为经由投影光学系统接收标记的投影图像的光接收器(15)；和控制单元(51)，其被配置为基于在光接收器上接收的投影图像计算标记的位置信息并且基于计算的位置信息控制被配置为执行校正的校正单元(42)，其中，该标记被设置于在掩模上照明的曝光光的光路的外面。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 器件 制造 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置用于在移动基板和掩模的同时执行基板的扫描曝光，所述曝光装置具有被配置为用曝光光对掩模进行照明的照明光学系统和被配置为将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统，所述曝光装置包括：测量光源，被配置为用测量光照射标记；光接收器，被配置为经由投影光学系统接收所述标记的投影图像；和控制单元，被配置为基于在光接收器上接收的投影图像来计算所述标记的位置信息并且基于计算的位置信息来控制被配置为执行校正的校正单元，其中，所述标记被设置于在掩模上照明的曝光光的光路的外面。
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