[发明专利]一种改变浸渍石墨表面浸润性能的表面改性方法有效
| 申请号： | 201610856086.7 | 申请日： | 2016-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN106313926B | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 刘莹;宋智翔;郭飞;刘向锋;王玉明 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | B41M5/00 | 分类号： | B41M5/00 |
| 代理公司： | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人： | 段俊涛 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种具有浸润可控性的浸渍石墨表面改性方法，包括根据浸渍石墨形状绘制相关激光打标机图案，确定表面改性范围，使用图案填充的方案进行激光打标；将待改性试件装卡至激光操作台上，并完成激光束对焦；设置激光打标参数为Q频为20kHz，空跳速度为2000mm/s；利用激光加工对表面形貌及表面特征的不同影响选择不同的扫描参数进行加工，从而得到不同浸润性(接触角范围为6.7°‑135.8°)的表面，同时不影响石墨材料整体的机械性能；此方法操作简单，易于大规模推广。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改变 浸渍 石墨 表面 浸润 性能 改性 方法 | ||
【主权项】：
1.一种改变浸渍石墨表面浸润性能的表面改性方法，其特征在于，包括：步骤一、根据浸渍石墨形状绘制相关激光打标机图案，确定表面改性范围，使用图案填充的方案进行激光打标；步骤二、将待改性试件装卡至激光操作台上，并完成激光束对焦；步骤三、设置激光打标参数为Q频为20kHz，空跳速度为2000mm/s，调整扫描速度及激光功率在合适范围；步骤四、利用激光照射浸渍石墨表面，通过调节不同的扫描速度与激光功率，使得浸渍石墨表面的微观形貌、分子结构发生变化，但是并没有形成显著的微织构，最终导致了浸渍石墨表面浸润性的可控变化。
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