[发明专利]一种用于CVD法制备石墨烯的冷壁炉及连续生产方法有效
| 申请号： | 201610854109.0 | 申请日： | 2016-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN106517163B | 公开（公告）日： | 2019-04-30 |
| 发明（设计）人： | 沈大勇;刘海滨;谭化兵 | 申请（专利权）人： | 无锡格菲电子薄膜科技有限公司;无锡第六元素电子薄膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B32/186 | 分类号： | C01B32/186 |
| 代理公司： | 北京世衡知识产权代理事务所(普通合伙) 11686 | 代理人： | 肖淑芳 |
| 地址： | 214000 江苏省无锡市惠山经*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于CVD法制备石墨烯的冷壁炉及连续生产方法，所述冷壁炉包括进样舱、工艺舱、出样舱，进样舱、工艺舱、出样舱依次连接，相邻舱室之间设有插板阀，用于连通或隔离相邻舱室，其中，所述工艺舱由中心向外围依次包括反应腔、均热板、加热层、保温层、冷凝壁，所述反应腔用于容置挂架。本发明CVD法生长石墨烯薄膜的冷壁炉设备采用三个舱室的方式，现有石英管式炉生长过程和冷却过程均在石英管内进行，本发明将两个过程分开在不同的空间进行，提高了效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 cvd 法制 石墨 壁炉 连续生产 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于CVD法制备石墨烯的冷壁炉，其特征在于：包括进样舱、工艺舱、出样舱，进样舱、工艺舱、出样舱依次连接，相邻舱室之间设有插板阀，用于连通或隔离相邻舱室，其中，所述工艺舱由中心向外围依次包括反应腔、均热板、加热层、保温层、冷凝壁，所述反应腔用于容置挂架；所述挂架、均热板、加热层、保温层、冷凝壁之间相互隔开，所述挂架与均热板之间的距离为8‑12mm；所述均热板采用石墨板；所述加热层采用在均热板外围均匀设置加热棒，所述加热棒采用石墨电阻棒。
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