[发明专利]一种Si‑Sb‑Se纳米相变薄膜材料及其制备方法与用途在审
申请号: | 201610852690.2 | 申请日: | 2016-09-26 |
公开(公告)号: | CN106374043A | 公开(公告)日: | 2017-02-01 |
发明(设计)人: | 胡益丰;朱小芹;邹华;张建豪;孙月梅;薛建忠;吴世臣;袁丽;吴卫华;郑龙;翟良君 | 申请(专利权)人: | 江苏理工学院 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;C23C14/35;C23C14/16;C23C14/18 |
代理公司: | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙)32231 | 代理人: | 翁斌 |
地址: | 213001 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明属于半导体材料领域,公开了一种Si‑Sb‑Se纳米相变薄膜材料,所述相变薄膜材料化学组成通式为Six(Sb2Se)1‑x,其中0.05≤X<0.50;通过叠放的Si片的直径来控制Six(Sb2Se)1‑x中Si的成分比,采用室温高真空磁控溅射的方法沉积而成。本发明的Si‑Sb‑Se相变材料,不含有Te元素,属环境友好型材料;同时,Si‑Sb‑Se还具有超高的热稳定性、较低的功耗和较快的相变速度,是理想的相变存储材料,具有较好的市场应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 si sb se 纳米 相变 薄膜 材料 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】:
一种Si‑Sb‑Se纳米相变薄膜材料,所述相变薄膜材料化学组成通式为Six(Sb2Se)1‑x,其中0.05≤X<0.50;通过叠放的Si片的直径来控制Six(Sb2Se)1‑x中Si的成分比。
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