[发明专利]一种多真空室的电阻式蒸发镀膜机及其操作方法

摘要

本发明适用于镀膜机领域，提供了一种多真空室的电阻式蒸发镀膜机，包括装取片室、镀膜室和蒸发室，所述装取片室与所述蒸发室均与所述镀膜室连通，且所述装取片室与所述镀膜室之间设有控制其连通与闭合的第一阀门，所述蒸发室与所述镀膜室之间设有控制其连通与闭合的第二阀门，所述装取片室与所述镀膜室之间还设有用于带动工件进出所述镀膜室的传动装置，所述蒸发室内具有镀料组件和用于加热所述镀料组件的电阻片，所述镀料组件紧贴在所述电阻片上。该镀膜机包括装取片室、镀膜室和蒸发室，使其镀膜室一直处于真空状态，无需因装取片而破真空导致吸附水汽等杂质，镀膜状态时没有水汽等杂质的干扰，气体气氛相对稳定，从而提高了镀膜品质和稳定性。

主权项

1.一种多真空室的电阻式蒸发镀膜机，其特征在于，包括装取片室、镀膜室和蒸发室，所述装取片室与所述蒸发室均与所述镀膜室连通，且所述装取片室与所述镀膜室之间设有控制其连通与闭合的第一阀门，所述蒸发室与所述镀膜室之间设有控制其连通与闭合的第二阀门，所述装取片室与所述镀膜室之间还设有用于带动工件进出所述镀膜室的传动装置，所述蒸发室内具有镀料组件和用于加热所述镀料组件的电阻片，所述镀料组件紧贴在所述电阻片上，所述镀膜室内包括用于承载所述工件的工件架，所述工件架可绕其中心线旋转；所述镀料组件包括镀料载体和待镀材料，所述待镀材料放置在所述镀料载体内，所述镀料载体的一端具有开口，并紧贴在所述电阻片上，所述镀料载体的开口一端不接触所述电阻片并朝向所述工件,所述镀料载体内还包括用于吸附所述待镀材料的蓬松金属丝；所述工件与所述镀料载体均为竖直方向，所述镀料载体的开口沿水平方向朝向所述工件；所述镀膜机还包括晶振探头、晶体振荡器和膜厚控制仪，所述晶振探头与所述晶体振荡器和膜厚控制仪电连接，共同组成振荡回路，所述晶振探头随所述工件架一起绕其中心线旋转，且所述晶振探头与所述工件位于所述工件架同一圆周位置。