[发明专利]一种降低重度汞污染稻田中水稻籽粒汞含量的施硅方法在审
| 申请号： | 201610811930.4 | 申请日： | 2016-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN106471911A | 公开（公告）日： | 2017-03-08 |
| 发明（设计）人： | 刘建国;孙辰鹏;王明新 | 申请（专利权）人： | 常州大学 |
| 主分类号： | A01B79/02 | 分类号： | A01B79/02;A01C21/00;C05D9/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213164 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种降低重度汞污染稻田中水稻籽粒汞含量的施硅方法，属于农产品重金属污染防治技术领域。其特征是在重度汞污染稻田中(土壤Hg浓度为2mg/kg，达到国家限定标准的4倍)，总施硅量为300kg/hm2(以有效成分SiO2计)，分三次施用，分别在水稻栽秧前5天施总硅量的1/2，在栽秧后30天、抽穗后5天各施总硅量的1/4。栽秧前5天和栽秧后30天的施硅采用撒施，将硅肥均匀撒施到稻田中，抽穗后5天的施硅采用叶面喷施方法，用水溶性硅肥溶于水中喷雾，每公顷用水量300L。其实施效果与水稻实际生产中常用的不施硅相比，水稻籽粒的汞含量大幅度下降(籼稻下降76.60％，粳稻下降82.86％)，而且水稻产量也有明显提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 降低 重度 污染 稻田 水稻 籽粒 含量 方法 | ||
【主权项】：
一种降低重度汞污染稻田中水稻籽粒汞含量的施硅方法，其特征是：在重度汞污染稻田中(土壤Hg浓度为2mg/kg，达到国家限定标准的4倍)，总施硅量为300kg/hm2(以有效成分SiO2计)，分三次施用，分别在水稻栽秧前5天施总硅量的1/2，在栽秧后30天、抽穗后5天各施总硅量的1/4。栽秧前5天和栽秧后30天的施硅采用撒施，将硅肥均匀撒施到稻田中；抽穗后5天的施硅采用叶面喷施方法，用水溶性硅肥溶于水中喷雾，每公顷用水量300L。
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