[发明专利]光刻装置、图案形成方法和用于制造产品的方法

摘要

本发明公开了光刻装置、图案形成方法和用于制造产品的方法。提供抑制台架控制的精度的下降的至少一个光刻装置。该光刻装置包括：移动单元，所述移动单元被配置为与安装在其上的原版或基板一起移动；多个测量单元，所述多个测量单元被配置为获得关于所述移动单元的位置的信息，各测量单元的测量区域彼此重叠；以及控制单元，所述控制单元被配置为基于位于重叠测量区域中的切换位置来切换被用于获得关于所述移动单元的位置的信息的测量单元，其中，在对所述原版上或基板上的多个处理目标中的一个处理目标执行多个处理的情况下，所述控制单元使切换位置能够改变并且控制测量单元，使得在执行所述多个处理中所述测量单元中的同一个测量单元被使用。

主权项

1.一种在基板上形成图案的光刻装置，其特征在于，该光刻装置包括：/n移动单元，所述移动单元被配置为与安装在该移动单元上的原版或基板一起移动；/n多个测量单元，所述多个测量单元被配置为获得关于所述移动单元的位置的信息，各测量单元的测量区域彼此重叠；以及/n控制单元，所述控制单元被配置为基于形成在所述原版或基板上的标记的位置来获得安装在所述移动单元上的所述原版或基板与所述移动单元之间的位置偏离量，并且基于位于重叠测量区域中的切换位置来切换被用于获得关于所述移动单元的位置的信息的测量单元，/n其中，在对所述原版上或基板上的多个处理目标中的一个处理目标执行第一处理并且在执行所述第一处理之后对所述一个处理目标执行第二处理的情况下，所述控制单元通过在所述第一处理被执行之后且所述第二处理被执行之前反映所获得的位置偏离量来控制所述移动单元，在所述第一处理被执行之后且所述第二处理被执行之前基于所获得的位置偏离量来改变切换位置，并且控制测量单元，使得在执行所述第一处理和第二处理中所述测量单元中的同一个测量单元被使用。/n