[发明专利]碳纳米管连续生成装置在审
| 申请号： | 201610772335.4 | 申请日： | 2016-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN106379887A | 公开（公告）日： | 2017-02-08 |
| 发明（设计）人： | 沈宇栋;万仁涛;顾灵锋 | 申请（专利权）人： | 无锡东恒新能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B32/162 | 分类号： | C01B32/162;C01B32/164;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司32200 | 代理人： | 张惠忠 |
| 地址： | 214037 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种碳纳米管连续生成装置，包括反应腔，反应腔上端设有进料管，反应腔下端连接出料管，反应腔内水平设有基板，基板下表面设有催化剂薄膜，基板上设有若干个第一孔洞，催化剂薄膜上设有若干个第二孔洞，第一孔洞与第二孔洞贯通，反应腔内设有等离子发射器，反应腔外侧连接储油腔，储油腔外侧连接加热装置，出料管外侧连接加气腔，加气腔一侧设有加气口，所述出料管内壁设有若干个喷气嘴，出料管内壁上的喷气嘴的入气口与加气腔连接，本发明解决了碳纳米管生长效率低、不能垂直连续生长、碳纳米管出料时碳纳米管会附着出料管内壁以及反应腔内很难保证温度的恒定及容易受热不均的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 连续 生成 装置 | ||
【主权项】：
一种碳纳米管连续生成装置，其特征在于：包括反应腔，反应腔上端设有进料管，反应腔下端连接出料管，反应腔内水平设有基板，基板下表面设有催化剂薄膜，基板上设有若干个第一孔洞，催化剂薄膜上设有若干个第二孔洞，第一孔洞与第二孔洞贯通，反应腔内设有等离子发射器，反应腔外侧连接储油腔，储油腔外侧连接加热装置，出料管外侧连接加气腔，加气腔一侧设有加气口，所述出料管内壁设有若干个喷气嘴，出料管内壁上的喷气嘴的入气口与加气腔连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡东恒新能源科技有限公司，未经无锡东恒新能源科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610772335.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
