[发明专利]MPI方法有效
| 申请号： | 201610753261.X | 申请日： | 2016-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN106419914B | 公开（公告）日： | 2019-07-02 |
| 发明（设计）人： | A·韦伯 | 申请（专利权）人： | 布鲁克碧奥斯平MRI有限公司 |
| 主分类号： | A61B5/05 | 分类号： | A61B5/05;G01R33/12 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 马景辉 |
| 地址： | 德国埃*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种MPI方法，其中施加位置相关的磁场，所述磁场具有无场区域，包括：测定校准体积和测量体积，其中所述校准体积大于所述测量体积，并且其中全部测量体积被设置在校准体积内；检测校准信号并且产生系统矩阵S；记录MPI测量信号u；采用校准体积内的磁性粒子浓度值ci重建位置相关的磁性粒子浓度c，以及把磁性粒子浓度值ci与校准体积内的体素关联；舍弃与测量体积外面的体素关联的那些磁性粒子浓度值ci；产生只包含磁性粒子浓度值ci的MPI图像，浓度值与所述测量体积内的体素是关联的.本发明的方法允许在短时间内产生MPI图像数据，即使是在测量体积外面的高磁性粒子密度的情况下也具有很少的伪影。 | ||
| 搜索关键词： | mpi 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于将磁性粒子定位在测试样品中的磁性粒子成像MPI方法，其中施加位置相关的磁场，所述磁场具有无场区域，所述MPI方法包括以下处理步骤：确定校准体积(KV1、KV2、KV3)和测量体积(MV)，其中所述校准体积(KV1、KV2、KV3)大于所述测量体积(MV)，并且其中全部测量体积(MV)被设置在所述校准体积(KV1、KV2、KV3)内；检测校准信号Sj并且从所述校准信号Sj产生系统矩阵S；记录MPI测量信号u，其中通过施加磁性控制场，所述无场区域借助于测量序列移动通过所述测量体积(MV)；根据记录的MPI测量信号和产生的系统矩阵S重建所述校准体积(KV1、KV2、KV3)内的具有磁性粒子浓度值ci的位置相关的磁性粒子浓度c，以及把磁性粒子浓度值ci与所述校准体积(KV1、KV2、KV3)中的体素相关联；舍弃与所述测量体积(MV)外面的体素关联的那些磁性粒子浓度值ci；产生只包含与所述测量体积内的体素网格的体素关联的磁性粒子浓度值ci的MPI图像。
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