[发明专利]用于借助陶瓷靶进行电弧气相沉积的方法在审
| 申请号： | 201610725648.4 | 申请日： | 2011-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN106435488A | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | M.莱希塔勒 | 申请（专利权）人： | 欧瑞康表面解决方案股份公司;普费菲孔 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及一种电弧气相沉积源，包括：带有导电陶瓷靶板（1）的阴极，阳极（21），电压源（23），其与靶板（1）和阳极（21）连接，使得靶板（1）能够相对于阳极（21）置于负电势上，用于点燃电弧的点燃装置（20）。靶板（1）与冷却板（10）大面积地热学地并且优选通过接合连接来有效连接，并且设置有用于强制阴极斑点移动的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 借助 陶瓷 进行 电弧 沉积 方法 | ||
【主权项】：
一种电弧气相沉积源，包括：－ 带有导电陶瓷靶板（1）的阴极，－ 阳极（21），－ 电压源（23），其与靶板（1）和阳极（21）连接，使得靶板（1）能够相对于阳极（21）置于负电势上，－ 用于点燃电弧的点燃装置（20），其特征在于，靶板（1）与冷却板（10）大面积地热学地并且优选通过接合连接来有效连接，并且设置有用于强制阴极斑点移动的装置。
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