[发明专利]一种机床平台镜面化处理的抛光方法

摘要

本发明公开了一种机床平台镜面化处理的抛光方法，其具体步骤为：（1）首先将机床平台进行前处理，包括清水冲洗、除油、除锈、二次冲洗、烘干；（2）将前处理过的机床平台进行粗铣，一次铣出后针对个别区块进行补铣；（3）再将粗铣过的机床平台进行半精铣；（4）半精铣后再将机床平台进行粗磨，粗磨过后对机床平台进行高速珩磨；（5）将珩磨后的机床平台均匀涂抹上加热的抛光液，再进行精磨，精磨采用十字精磨，先横向再纵向进行精磨，精磨后再最后进行研磨，研磨后进行冲洗干净后使用洁净空气吹干，覆膜；本发明的有益效果是：设置了前处理工艺，可大大提高抛光速率和质量，并且利用多道工序步步推进抛光进程，提高工艺本身的容错率。

主权项

一种机床平台镜面化处理的抛光方法，其特征在于其具体步骤为：（1）首先将机床平台进行前处理，包括清水冲洗、除油、除锈、二次冲洗、烘干；（2）将前处理过的机床平台进行粗铣，要求一次铣出完成度在85‑95%，并且Z向切深要求比实际计算切深多出1‑2mm，一次铣出后针对个别区块进行补铣；（3）再将粗铣过的机床平台进行半精铣，半精铣采用网格区划将整个平台区划成3‑5cm边长的正方形网格，分别对不同网格中平面的不同平面情况进行半精铣；（4）半精铣后再将机床平台进行粗磨，要求粗磨工作量控制在1‑3mm，粗磨过后对机床平台进行高速珩磨，珩磨进给速度控制在3‑5m/min；（5）将珩磨后的机床平台均匀涂抹上加热至40‑60℃的抛光液，再进行精磨，精磨采用十字精磨，先横向再纵向进行精磨，精磨时进给速度控制在1‑3m/min，精磨后再最后进行研磨，研磨后冲洗干净后使用洁净空气吹干，覆膜。