[发明专利]离子束抛光离子源坐标位置标校系统和标校方法在审

专利信息
申请号: 201610705733.4 申请日: 2016-08-23
公开(公告)号: CN106217175A 公开(公告)日: 2016-12-14
发明(设计)人: 邓翔宇 申请(专利权)人: 成都森蓝光学仪器有限公司
主分类号: B24B13/00 分类号: B24B13/00;B24B49/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610000 四川省成都*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种离子束抛光离子源坐标位置标校系统和方法,属于精密光学技术领域。它包括离子源,还包括法拉第杯及杯安装座、信号放大器、PLC、计算机和运动系统运动系统安装在离子束抛光设备上,离子源安装在运动系统上,法拉第杯位于运动系统各个运动轴的行程范围内;法拉第杯依次与信号放大器、PLC、计算机电联接。本发明能快速有效的测量出离子源束流中心坐标位置相对于工件坐标的偏差,并在运控控制系统中进行补偿,有效的提升加工坐标的精确对准,从而提升离子束抛光精度;通过硬件和软件相结合的系统方法,采用X轴和Y轴的分步扫描方法,能实现X轴和Y轴的坐标偏差测量和补偿。
搜索关键词: 离子束 抛光 离子源 坐标 位置 系统 校方
【主权项】:
一种离子束抛光离子源坐标位置标校系统,包括离子源(1),其特征在于,还包括法拉第杯(2)及杯安装座(3)、信号放大器(4)、PLC(5)、计算机(7)和运动系统(6);运动系统(6)安装在离子束抛光设备上,离子源(1)安装在运动系统(6)上,法拉第杯(2)位于运动系统(6)各个运动轴的行程范围内;法拉第杯(2)依次与信号放大器(4)、PLC(5)、计算机(7)电联接。
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