[发明专利]一种高斯径向基函数代理模型的参数确定方法在审
申请号: | 201610684850.7 | 申请日: | 2016-08-18 |
公开(公告)号: | CN106295043A | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
发明(设计)人: | 胡凡;彭科;江振宇;张为华;张士峰;王东辉;向敏 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京中济纬天专利代理有限公司11429 | 代理人: | 陈立新 |
地址: | 410073 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明属于信息处理领域,具体涉及一种高斯径向基函数代理模型的参数确定方法。本发明采用的技术方案是:将样本空间线性映射到单位立方体内;根据样本分布情况计算各样本点局部密度;计算局部密度最小的样本点至其它样本点的最小距离;确定各样本点的核宽度;确定各样本点对应基函数的权系数。本发明的有益效果是:本发明提出的方法逻辑清晰、操作简便、易于执行;本发明基函数核宽度确定方法基本不会带来计算量的增加;采用本发明方法得到的高斯径向基函数代理模型通用于均匀/非均匀样本,且具有可靠、高效、高精度的显著特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 径向 函数 代理 模型 参数 确定 方法 | ||
【主权项】:
一种高斯径向基函数代理模型的参数确定方法,其特征在于,该方法具体包括以下步骤:第一步:将样本空间线性映射到n维单位立方体内;采用下式将样本空间线性映射到n维单位立方体内:xk=Xk-XkLXkU-XkL,k=1,2,...,n---(3)]]>式中,分别为第k维设计变量的上下界;Xk、xk分别为原设计空间与映射后单位立方体中第k维设计变量的取值;第二步:根据样本分布情况计算各样本点局部密度;采用下式计算各样本点局部密度:ρ(xi)=Σj=1Ne-||xi-xj||2c2=Σj=1Ne-(xi-xj)T(xi-xj)c2---(4)]]>式中,取得:ρ(xi)=Σj=1Ne-||xi-xj||2c2=Σj=1Ne-(xi-xj)T(xi-xj)c2=Σj=1Ne-N2/n(xi-xj)T(xi-xj);---(5)]]>第三步:计算局部密度最小的样本点xs至其它样本点的最小距离ds,min;局部密度最小的样本点xs至其它样本点的最小距离ds,min为:ds,min=minj=1N[(xs-xj)T(xs-xj)];---(6)]]>第四步:确定各样本点的核宽度;采用下式确定各样本点的核宽度:σi=ρ(xs)/ρ(xi)nds,min;---(7)]]>第五步:将样本S:[xi,yi](i=1,2,…,N)代入公式:得以基函数权系数wi(i=1,2,…,N)为未知数的N维线性方程组:式中,求解该方程组得wi;至此,公式中的未知参数σi与wi完全确定,即完成了高斯径向基函数代理模型的参数确定过程。
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