[发明专利]气体冷却装置、气化炉和气体冷却方法在审
| 申请号： | 201610675010.4 | 申请日： | 2016-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN107764079A | 公开（公告）日： | 2018-03-06 |
| 发明（设计）人： | 刘臻;刘兵;管清亮;陈薇 | 申请（专利权）人： | 神华集团有限责任公司;北京低碳清洁能源研究所 |
| 主分类号： | F28C3/08 | 分类号： | F28C3/08;C10J3/00;C10J3/72 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司11283 | 代理人： | 王崇,严政 |
| 地址： | 100011 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及气体冷却领域，公开了一种气体冷却装置、气化炉和气体冷却方法。所述气体冷却装置包括用于供待冷却气体通过的气体通道；所述气体通道的气体入口端设置有冷却介质分布环；所述气体冷却装置还包括一个或多个喷嘴，每个所述喷嘴包括多个喷管，所述多个喷管用于向所述气体通道内部导入冷却介质流，所述多个喷管的设置方式使得从至少两个喷管导入所述气体通道内部的冷却介质流对撞雾化。本发明提供的气体冷却装置在提高冷却效果的同时，避免了喷嘴堵塞的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 冷却 装置 气化 方法 | ||
【主权项】：
一种气体冷却装置，其特征在于，该气体冷却装置包括用于供待冷却气体通过的气体通道；所述气体通道的气体入口端设置有冷却介质分布环，以形成能够与所述待冷却气体直接接触的冷却介质薄膜；所述气体冷却装置还包括一个或多个喷嘴，每个所述喷嘴包括多个喷管，所述多个喷管用于向所述气体通道内部导入冷却介质流，所述多个喷管的设置方式使得从至少两个喷管导入所述气体通道内部的冷却介质流对撞雾化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于神华集团有限责任公司;北京低碳清洁能源研究所，未经神华集团有限责任公司;北京低碳清洁能源研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610675010.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：罐式炉自动调温系统
- 下一篇：多锥形、多阶段喷射喷嘴
