[发明专利]用于除去在合成气中包含的含硫、含氮和含卤素杂质的方法

摘要

用于除去在合成气中包含的含硫、含氮和含卤素杂质的方法。本发明涉及用于最终除去在合成气中包含的含硫、含氮和含卤素杂质的方法，所述方法包括：a)用于水解所述气体中含有的COS和HCN以及用于收集含卤素化合物的联合步骤，其中使用TiO₂‑基催化剂，b)使用溶剂的洗涤步骤，c)用于收集体或吸附剂上的脱硫的步骤，根据本发明方法的纯化的合成气包含少于10ppb重量的含硫杂质、少于10ppb重量的含氮杂质和少于10ppb重量的含卤素杂质。

主权项

用于除去在合成气中包含的含硫、含氮和含卤素杂质的方法，所述杂质如H₂S、COS、CS₂、HCN、NH₃、HF、HCl、HBr和HI，所述方法包括：a)使用TiO₂‑基的催化剂的用于水解COS和HCN以及用于捕集含卤素化合物的联合步骤，所述催化剂包含10重量％至100重量％之间的TiO₂和1重量％至30重量％之间的选自钙、钡、锶和镁的碱土金属的至少一种硫酸盐，b)使用至少一种溶剂的洗涤步骤，c)用于在捕集体或吸附剂上脱硫的步骤，其中步骤c)在150至350℃之间的温度实施。