[发明专利]一种磁控溅射平面靶材屏蔽罩在审
| 申请号： | 201610626729.9 | 申请日： | 2016-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN106011770A | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 王进东 | 申请（专利权）人： | 江苏宇天港玻新材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京君华知识产权代理事务所(普通合伙) 11515 | 代理人： | 朱庆华 |
| 地址： | 223100 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种磁控溅射平面靶材屏蔽罩，包括靶背板，四周侧挡板，盖板，所述盖板固定在四周侧挡板上，四周侧挡板固定在靶背板上，四周侧挡板中至少两个相对的侧挡板的上部位置之间的距离大于底部位置之间的距离。可减小在安装及实际镀膜加热过程中的形变，使其与靶材基座之间距离保持稳定，减少阴阳极之间距离过近而产生打火现象的发生频率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 平面 屏蔽 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射靶材屏蔽罩，包括靶背板(11)，四周侧挡板(12)，盖板(13)，所述盖板(13)固定在四周侧挡板上，四周侧挡板固定在靶背板上，其特征在于，四周侧挡板(12)中至少两个相对的侧挡板的上部位置之间的距离大于底部位置之间的距离。
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