[发明专利]氧化还原石墨烯/TiO2：Nd复合物自清洁薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201610616879.1 | 申请日： | 2016-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN106345449B | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | 贺海燕;贺祯;沈清 | 申请（专利权）人： | 陕西科技大学 |
| 主分类号： | B01J23/10 | 分类号： | B01J23/10 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 李宏德 |
| 地址： | 710021 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明一种氧化还原石墨烯/TiO2：Nd复合物自清洁薄膜及其制备方法，所述制备方法，包括如下步骤，步骤1，制备前驱体溶液：以无水乙醇和水为溶剂，将钛酸四丁酯、硝酸钕和GO水溶液加入溶剂中，经充分搅拌至均匀透明得到前驱体溶液；其中，前驱体溶液中Ti离子浓度为0.01‑0.10mol/l，Nd离子的掺杂量为TiO2的0‑1.5at.％，氧化还原石墨烯rGO与TiO2的质量比为0‑0.050，均不包括0；GO水溶液中的水计入前驱体溶液的总水配比中，每100ml前驱体溶液中加入1.0ml浓盐酸；步骤2，涂膜：将前驱体溶液浸涂或旋涂在需要镀膜的基片上，每次涂覆后在150‑200℃下干燥0.5h，根据要求反复涂覆5‑25次；步骤3，烧成：在400℃下烧制1.0h，在需要镀膜的基片上得到氧化还原石墨烯/TiO2：Nd复合物自清洁薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 还原 石墨 tio2 nd 复合物 清洁 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.氧化还原石墨烯/TiO2：Nd复合物自清洁薄膜制备方法，其特征在于，包括如下步骤，步骤1，制备前驱体溶液：以无水乙醇和水为溶剂，在溶剂中加入乙二醇、丙二醇和丙三醇作为稳定剂和分散剂，将钛酸四丁酯、硝酸钕和GO水溶液加入溶剂中，经充分搅拌至均匀透明得到前驱体溶液；其中，前驱体溶液中Ti离子浓度为0.01‑0.10mol/l；GO水溶液中的水计入前驱体溶液的总水配比中，每100ml前驱体溶液中加入1.0ml还原剂浓盐酸和5ml乙酰丙酮；步骤2，涂膜：将前驱体溶液浸涂或旋涂在需要镀膜的基片上，每次涂覆后在150‑200℃下干燥0.5h，根据要求反复涂覆5‑25次；步骤3，烧成：在400℃下烧制1.0h，在需要镀膜的基片上得到氧化还原石墨烯/TiO2：Nd复合物自清洁薄膜，其中，Nd离子的掺杂量为TiO2的0.5‑1.5at.％，氧化还原石墨烯rGO与TiO2的质量比为0‑0.050，氧化还原石墨烯rGO的含量不为0。
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