[发明专利]一种磁控溅射工艺中使用的旋转银靶在审
| 申请号： | 201610610987.8 | 申请日： | 2016-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN106011768A | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 王进东 | 申请（专利权）人： | 江苏宇天港玻新材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京君华知识产权代理事务所(普通合伙)11515 | 代理人： | 李海峰 |
| 地址： | 223100 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种磁控溅射工艺中使用的旋转银靶，包括支撑架，固定卡扣，旋转轴，旋转银靶管体，电机，电机控制单元；所述旋转银靶管体内部穿有所述旋转轴，所述旋转轴通过所述旋转银靶管体两端的所述固定卡扣配合与所述旋转银靶管体相对固定，所述旋转轴一端与所述支撑架相连，所述旋转轴的另一端与所述电机相连。本发明的靶材利用率高，有效减少打弧和靶面掉渣，溅射速率高，降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 工艺 使用 旋转 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射工艺中使用的旋转银靶，其特征在于，包括支撑架（5），固定卡扣（3），旋转轴（2），旋转银靶管体（1），电机（4），电机控制单元；所述旋转银靶管体（1）内部穿有所述旋转轴（2），所述旋转轴（2）通过所述旋转银靶管体（1）两端的所述固定卡扣（3）配合与所述旋转银靶管体（1）相对固定，所述旋转轴（2）一端与所述支撑架（5）相连，所述旋转轴（2）的另一端与所述电机（4）相连。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏宇天港玻新材料有限公司，未经江苏宇天港玻新材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610610987.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种磁控溅射真空镀膜设备
- 下一篇：超薄自支撑聚合物薄膜的制备方法
- 同类专利
- 专利分类
