[发明专利]一种抑制TFT液晶显示屏减薄后凹点的蚀刻液在审
| 申请号： | 201610565817.2 | 申请日： | 2016-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN106186714A | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 张杰;陈奇;沈励;郑建军;姚仕军;吴青肖 | 申请（专利权）人： | 天津美泰真空技术有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300000 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种抑制TFT液晶显示屏减薄后凹点的蚀刻液，该蚀刻液基于化学手段抑制减薄处理过程中凹点的形成，与研磨抛光法相比，操作时间较短、工作量较小且有效避免了因研磨抛光而产生的品质不良问题。在此技术思路下，本发明通过实验手段设计了全新的蚀刻液配方，在降低氟化物用量的基础上添加了重铬酸钾、高锰酸钾等强氧化剂，使得该蚀刻液的蚀刻速度相对缓慢，既满足了预处理的蚀刻要求又避免了蚀刻速度过快影响基材表层结构的问题。在此基础上，本发明通过螯合剂促进了多种溶质成分在混合体系中的溶解性，为多种溶质成分协同作用奠定了基础。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抑制 tft 液晶显示屏 减薄后凹点 蚀刻 | ||
【主权项】：
一种抑制TFT液晶显示屏减薄后凹点的蚀刻液，其特征在于包括以下质量百分比的成分：氢氟酸10％，氟化氢铵8％，硫酸铵8％，甘油6％，醋氟化氨5％，硼酸6％，高氯酸钠5％，乙二胺四乙酸二钠2％，钼酸钾3％，菊酯2％，高锰酸钾4％，重铬酸钾2％，氯仿2％，水30％。
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