[发明专利]一种用于喷涂硅铝靶材打底层的合金及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610516406.4 申请日: 2016-07-04
公开(公告)号: CN105970030B 公开(公告)日: 2018-03-13
发明(设计)人: 秦国强 申请(专利权)人: 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司
主分类号: C22C21/00 分类号: C22C21/00;C22C1/02;C22F1/04;C23C4/073;C23C4/131;C23C14/34
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)32104 代理人: 殷红梅,张仕婷
地址: 214437 江苏省无锡市江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种用于喷涂硅铝靶材打底层的合金及其制备方法,属于材料技术领域。其包括铝50‑82份,钛5‑20份,镍1‑30份,铬0.3‑5份,硅1‑8份,钼0.2‑3份,钕0.1‑2份,用真空连续铸造炉,通过铝锭熔化、硅块熔化、钼块熔化、钛块熔化、铬块和镍块的熔化、钕熔化及铸棒得到合金棒材,再通过连续拉丝机,得到直径2毫米的丝材,退火后,将其用于喷涂硅铝靶材的打底层。本发明制备得到的合金抗氧化能力强,软硬适中,与背管和靶体的结合力强,并且不具磁性,成本低廉。
搜索关键词: 一种 用于 喷涂 硅铝靶材打 底层 合金 及其 制备 方法
【主权项】:
一种用于喷涂硅铝靶材打底层的合金,其特征是配方比例按重量份计如下:铝50‑82份,钛5‑20份,镍1‑30份,铬0.3‑5份,硅1‑8份,钼0.2‑3份,钕0.1‑2份;将上述材料按照一定顺序熔化,经铸棒、拉丝和退火后得到产品用于喷涂硅铝靶材打底层的合金。
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