[发明专利]一种运动台吸附装置及光刻装置在审
| 申请号： | 201610510854.3 | 申请日： | 2016-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN107561870A | 公开（公告）日： | 2018-01-09 |
| 发明（设计）人： | 季采云;廖飞红;杨辅强;许伍 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种运动台吸附装置及光刻装置，所述吸附装置包括吸附台和支撑组件，所述吸附台上设有容纳所述支撑组件的第一让位槽，所述支撑组件设于所述第一让位槽内，所述支撑组件包括若干水平支撑杆，所述水平支撑杆下方通过连杆连接至驱动机构，所述吸附台和所述支撑组件靠近工件的一侧设有吸附结构。通过在支撑组件靠近工件的一侧设置吸附结构，对工件的整个平面进行吸附，解决了工件在让位槽区域平面凸起的现象，保证了面型精度；在吸附气流撤销后，通过驱动机构带动支撑组件承担工件传输过程中的上下片工作。本发明不仅可以将工件整面支撑的面型精度控制在8um以下，同时保证了工件传输过程中的上、下片工作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 运动 吸附 装置 光刻 | ||
【主权项】：
一种运动台吸附装置，包括吸附台和支撑组件，其特征在于，所述吸附台上设有容纳所述支撑组件的第一让位槽，所述支撑组件设于所述第一让位槽内，所述支撑组件包括若干水平支撑杆，所述水平支撑杆下方通过连杆连接至驱动机构，所述吸附台和所述支撑组件靠近工件的一侧设有吸附结构。
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