[发明专利]氧离子表面调控的纳米g-C3N4有机光催化剂及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201610466170.8 | 申请日： | 2016-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN106140241B | 公开（公告）日： | 2019-02-05 |
| 发明（设计）人： | 李灿;卢松;李环环;宫银燕;牛棱渊;刘心娟;孙长庆 | 申请（专利权）人： | 中国计量大学 |
| 主分类号： | B01J27/24 | 分类号： | B01J27/24;C02F1/30 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 韩介梅;万尾甜 |
| 地址： | 310018 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种氧离子表面调控的纳米g‑C3N4有机光催化剂及其制备方法和应用。该可见光催化剂以多孔g‑C3N4二维有机纳米片为基体，并通过氧离子对其进行表面改性获得。本发明提供的氧离子表面调控纳米g‑C3N4有机光催化剂中，催化剂表面氧离子明显改变了其晶体结构，电子结构及光催化活性，使得氧化后的纳米g‑C3N4材料在可见光照射下对罗丹明B的光催化活性大幅增强。实验表明，本发明提供的纳米氧化g‑C3N4催化剂的可见光催化活性是纯相g‑C3N4光催化剂的2.5～3.5倍。此外，本发明提供的制备方法及实验条件温和，操作简单，利于大规模生产。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 表面 调控 纳米 sub 有机 光催化剂 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种氧离子表面调控纳米g‑C3N4有机光催化剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：以三聚氰胺为原料，在空气中煅烧获得纯相g‑C3N4粉末，再将其加入过氧化氢溶液中，H2O2与g‑C3N4的摩尔比为(600~800) : 1，并将混合溶液pH调节为2，经超声处理后，离心烘干，获得氧离子表面调控纳米g‑C3N4有机光催化剂，所述超声处理的加热温度为40℃，处理时间为10h。
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