[发明专利]一种真空系统中散热件的密封散热装置有效
申请号: | 201610457964.8 | 申请日: | 2016-06-22 |
公开(公告)号: | CN106028727B | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 张罗莎;王魁波;吴晓斌;陈进新;罗艳;谢婉露;周翊;王宇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电研究院 |
主分类号: | H05K5/06 | 分类号: | H05K5/06;H05K7/20 |
代理公司: | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人: | 张斯盾 |
地址: | 100094*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种真空散热件的密封散热装置,用于真空环境中电子学系统的真空密封散热,该装置包括上法兰(1)、电子学系统(4)、下法兰(8),其中,上法兰(1)上开有第一密封槽(3),下法兰(8)上开有双密封槽结构,其包括第二密封槽(5)和第三密封槽(7),第二密封槽(5)和第三密封槽(7)之间开有抽气槽(6)。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空 系统 散热 密封 装置 | ||
【主权项】:
1.一种真空散热件的密封散热装置,用于真空环境中电子学系统的真空密封散热,该装置包括上法兰(1)、电子学系统(4)、下法兰(8),其中,上法兰(1)上开有第一密封槽(3),下法兰(8)上开有双密封槽结构,其包括第二密封槽(5)和第三密封槽(7),第二密封槽(5)和第三密封槽(7)之间开有抽气槽(6),其中,电子学系统(4)的边缘留出与上法兰(1)、下法兰(8)相配合的法兰连接孔,安装时对齐上法兰(1)、电子学系统(4)、下法兰(8)的连接孔,通过螺栓(2)拧紧,使得下法兰(8)作为密封法兰的同时起到散热热沉的作用。
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