[发明专利]青瓷光面与裂纹面的陶瓷制备方法

摘要

本发明涉及陶瓷领域，具体为青瓷光面与裂纹面的陶瓷制备方法不开片的光面(下层或上层)的泥料成分包括SiO₂ 69.26份，AL₂O₃ 19.25份，Fe₂O₃ 0.86份，CaO 0.81份，MgO 0.51份，K₂O 2.90份，Na₂O 1.30份；开片的裂纹面(上层或下层)的泥料成分包括SiO₂ 62.56份，AL₂O₃ 25.44份，Fe₂O₃ 0.82份，CaO 0.7份，MgO 4.25份，K₂O 2.20份，Na₂O 1.20份；将光面与裂纹面上下层面用中间泥层粘结在一起形成整体坯，整体坯利用梭式窑，还原焰的气氛，进行烧成。本发明提供的青瓷光面与裂纹面的陶瓷制备方法，将传统的光面的青瓷与裂纹面青瓷相结合，在同一件青瓷陶器上进行表现，而且不会出现开裂缺陷，打造出高档次的青瓷艺术品。

主权项

1.青瓷光面与裂纹面的陶瓷制备方法，其特征在于，包括以下过程：不开片的光面的泥料成分按照以下重量份数组成：SiO2 69.26份，AL2O3 19.25份，Fe2O3 0.86份，CaO 0.81份，MgO 0.51份，K2O 2.90份，Na2O 1.30份；开片的裂纹面的泥料成分按照以下重量份数组成：SiO2 62.56份，AL2O3 25.44份，Fe2O3 0.82份，CaO 0.7份，MgO 4.25份，K2O 2.20份，Na2O 1.20份；将光面与裂纹面用中间泥层粘结在一起形成整体坯，整体坯利用梭式窑，还原焰的气氛，进行烧成，烧成温度：1250～1320℃，烧成时间：10～12小时；所述的中间泥层的泥料成分按照以下重量份数组成：SiO2 66.43份，AL2O3 22.66份，Fe2O3 0.83份，CaO 0.80份，MgO 2.02份，K2O 2.50份，Na2O 1.20份。