[发明专利]一种红灯樱桃种植方法

摘要

本发明涉及水果种植技术领域，尤其是一种红灯樱桃种植方法，通过整地、做高垄处理，使得红灯樱桃种植林的种植密度得到控制，并结合挖坑处理，并对坑中的结构层进行设置，使得红灯樱桃种植在坑中后，其透气性较好，在种植过程中紧压表层土壤，使得坑中泥土弹性变化，不会导致苗木根部受损，并且表层土壤不会疏松，使得苗木移栽后的成活率较高，而且结合中药灭虫剂的加入处理，使得其能够杀灭病虫害的影响，提高红灯樱桃苗木的成活率；而且能够充分为红灯樱桃苗木生长供给养分，促进了红灯樱桃苗木的快速生长。

主权项

一种红灯樱桃种植方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)整地、并做高垄，垄高35‑40cm，宽2‑4m，并在垄中间挖定植坑、坑深50‑55cm，半径为100cm；向坑中加入中药灭虫剂，加入量为每坑8‑10kg，并采用湿度为55‑75％的河沙覆盖1‑3cm，再采用锯末和有机肥混合后覆盖2‑5cm，再覆盖2‑4cm的泥土，将红灯樱桃苗移栽到坑中，并采用泥土填满坑，并压紧，再采用锯末覆盖1‑3cm厚，覆盖是以苗为中心，覆盖半径为0.8‑1.8m的圆，再采用湿度为60‑80％的河沙覆盖2‑4cm；(2)待苗木定根，并长出新芽，采用中药灭虫剂粉末与水按照质量比1∶8‑9混合成溶液，将溶液送入研磨机中研磨过100‑150目筛后，获得喷洒液，喷洒，每株每次喷洒1‑3kg，每隔1个月喷洒一次，连续喷洒半年，按照常规管理，即可。