[发明专利]一种防污弹性纳米压印印章的制备方法

摘要

本发明公开了一种防污弹性纳米压印印章的制备方法，包括如下步骤：称取适量的基本材料，以及防污剂和纳米硅胶混合，研磨得到混合物，将混合物加热，加入适量的水，将混合物制成液体，再经过搅拌，静置，称取蒙脱土，静置后微微加热，然后使溶剂挥发冷却至室温，制得纳米复合物，再将纳米复合物上涂抹一层脱模剂，加热使其成型，用氩离子束进行刻蚀，刻蚀完成后用去铬液将铬膜去除，即可得到所需的纳米印章。本发明具有脱模性较好，提高整体使用寿命，降低更换成本，工艺简单、效率高的特点。

主权项

1.一种防污弹性纳米压印印章的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：(1)称取适量的基本材料，以及防污剂和纳米硅胶混合，经过纳米级的研磨得到混合物，将混合物在80℃‑150℃下加热，加入适量的水，将混合物制成液体，再经过高速搅拌，静置12‑36h；(2)按比例称取一定量的蒙脱土，并与(1)中制得的溶剂搅拌使混合均匀，静置6‑10h后微微加热至40℃‑60℃，然后使溶剂挥发冷却至室温，制得纳米复合物；(3)将纳米复合物置于真空干燥器中抽真空10‑20min，以脱除其中的气泡，再将纳米复合物上涂抹一层脱模剂，加热使其成型，随即将纳米复合物浇注在已刻有图纹的光刻模板上于室温固化20‑24h，轻轻剥下纳米复合物，此时纳米复合物表面已复制有光刻模板上的图纹即得到弹性印章；(4)将弹性印章用等离子体将多余的光刻胶去除，然后用氩离子束进行刻蚀，刻蚀完成后用去铬液将铬膜去除，即可得到所需的纳米印章。