[发明专利]一种地物光谱剖面测量方法在审
申请号: | 201610385016.8 | 申请日: | 2016-06-02 |
公开(公告)号: | CN107463716A | 公开(公告)日: | 2017-12-12 |
发明(设计)人: | 宋扬;吴礼福 | 申请(专利权)人: | 宋扬 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明属于数字填图领域,具体公开一种地物光谱剖面测量方法,该方法包括如下步骤步骤1,在计算机上配置时间间隔控制器;步骤2,对ASD光谱仪进行优化和白板校准;步骤3,将GPS模块固定在ASD光谱仪上;步骤4,启动步骤1中所述的时间间隔控制器和步骤3中所述的GPS模块;步骤5,沿指定路线移动步骤3中固定有GPS模块的ASD光谱仪;步骤6,关闭步骤1所述的时间间隔控制器和步骤3所述的GPS模块;步骤7,按记录时刻匹配光谱文件和GPS坐标。 | ||
搜索关键词: | 一种 地物 光谱 剖面 测量方法 | ||
【主权项】:
一种地物光谱剖面测量方法,其特征包括如下步骤:步骤1,在计算机上配置时间间隔控制器;步骤2,对ASD光谱仪进行优化和白板校准;步骤3,将GPS模块固定在所述步骤2中的ASD光谱仪上;步骤4,启动所述步骤1中的时间间隔控制器和所述步骤3中的GPS模块;步骤5,沿指定路线移动所述步骤3中固定有GPS模块的ASD光谱仪;步骤6,关闭所述步骤1中的时间间隔控制器和所述步骤3中的GPS模块;步骤7,按记录时刻匹配光谱文件和坐标文件。
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