[发明专利]一种中空六元环状羟基氧化钴纳米材料及其制备方法有效
申请号: | 201610382883.6 | 申请日: | 2016-06-01 |
公开(公告)号: | CN107445213B | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 陈光文;陈会会;杨梅;陶莎;任明月 | 申请(专利权)人: | 中国科学院大连化学物理研究所 |
主分类号: | C01G51/04 | 分类号: | C01G51/04;B82Y40/00 |
代理公司: | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人: | 周莹;毛薇 |
地址: | 116023 *** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及一种中空六元环状羟基氧化钴纳米材料及其制备方法,属于无机材料领域。该中空六元环状羟基氧化钴的六条边的长度均为50‑150nm,纵向厚度为10‑20nm,壁厚为20‑30nm,其制备方法具体过程如下:(1)将钴盐水溶液和强碱水溶液并流滴入三口烧瓶中,在惰性气氛及搅拌条件下反应一定时间;(2)撤掉保护气,加入一定量的强氧化剂,继续陈化;(3)陈化结束后所得悬浊液经过滤、洗涤、干燥,得到一种中空六元环状羟基氧化钴纳米材料。本发明具有工艺流程简单、反应条件温和,易大规模制备等优点,所得产品粒度分布窄、形貌可控、重现性好,有望在超级电容器、锂离子电池及催化等领域得到应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 中空 环状 羟基 氧化钴 纳米 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种中空六元环状羟基氧化钴纳米材料,其分子式为CoOOH,该中空六元环状羟基氧化钴的六条边的长度均为50‑150nm,纵向厚度为10‑20nm,壁厚为20‑30nm。
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