[发明专利]一种中空六元环状羟基氧化钴纳米材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610382883.6 申请日: 2016-06-01
公开(公告)号: CN107445213B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 陈光文;陈会会;杨梅;陶莎;任明月 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: C01G51/04 分类号: C01G51/04;B82Y40/00
代理公司: 大连东方专利代理有限责任公司 21212 代理人: 周莹;毛薇
地址: 116023 *** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及一种中空六元环状羟基氧化钴纳米材料及其制备方法,属于无机材料领域。该中空六元环状羟基氧化钴的六条边的长度均为50‑150nm,纵向厚度为10‑20nm,壁厚为20‑30nm,其制备方法具体过程如下:(1)将钴盐水溶液和强碱水溶液并流滴入三口烧瓶中,在惰性气氛及搅拌条件下反应一定时间;(2)撤掉保护气,加入一定量的强氧化剂,继续陈化;(3)陈化结束后所得悬浊液经过滤、洗涤、干燥,得到一种中空六元环状羟基氧化钴纳米材料。本发明具有工艺流程简单、反应条件温和,易大规模制备等优点,所得产品粒度分布窄、形貌可控、重现性好,有望在超级电容器、锂离子电池及催化等领域得到应用。
搜索关键词: 一种 中空 环状 羟基 氧化钴 纳米 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
一种中空六元环状羟基氧化钴纳米材料,其分子式为CoOOH,该中空六元环状羟基氧化钴的六条边的长度均为50‑150nm,纵向厚度为10‑20nm,壁厚为20‑30nm。
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