[发明专利]一种快速选择版图图层的方法在审
| 申请号： | 201610379650.0 | 申请日： | 2016-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN106096095A | 公开（公告）日： | 2016-11-09 |
| 发明（设计）人： | 吕江萍;陈超;刘霞 | 申请（专利权）人： | 中国兵器工业集团第二一四研究所苏州研发中心 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 耿英;董建林 |
| 地址： | 215163 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种快速选择版图图层的方法，步骤1：选择半导体工艺库文件常用图层，并对其进行识别、选择，编写某个图层的可选、可视及组合操作信息，根据某个图层与整个图层不同的组合配置对应不同的快捷键，形成一个程序脚本文件file1；步骤2：将程序脚本文件file1配置到Virtuoso软件环境；步骤3：打开版图，按快捷键进行相应的图层选择与操作。本发明使用Skill语言，自定义一些快捷键和组合快捷键，来快速选择版图设计图层，对所有的工艺库都适用，通用性强，简化了图层操作，提高工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 快速 选择 版图 方法 | ||
【主权项】：
一种快速选择版图图层的方法，其特征是，编写和配置基于Skill语言的程序，包括以下步骤：步骤1：选择半导体工艺库文件常用图层，并对其进行识别、选择，编写常用图层的可选、可视及组合操作信息，根据图层与整个图层不同的组合配置对应不同的快捷键，形成一个程序脚本文件file1；步骤2：将程序脚本文件file1配置到Virtuoso软件环境；步骤3：打开版图，按快捷键进行相应的图层选择与操作。
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