[发明专利]一种黑色绝缘薄膜元件及其制造方法在审
申请号: | 201610326534.2 | 申请日: | 2016-05-17 |
公开(公告)号: | CN105970165A | 公开(公告)日: | 2016-09-28 |
发明(设计)人: | 籍龙占;王国昌;谢丑相;吴历清;张晓岚 | 申请(专利权)人: | 杭州朗旭新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/08;C23C14/02;C23C16/40;C23C16/02 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 韩介梅;万尾甜 |
地址: | 310051 浙江省杭州市滨*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种黑色绝缘薄膜元件及其制造方法。该黑色绝缘薄膜元件包括基体衬底和设置于其表面的黑色绝缘薄膜层,所述黑色绝缘薄膜透光率小于0.1%,薄膜方块电阻大于300M欧,为Ni、Fe、Cu或Al中一种金属的氧化物或多种金属氧化物的任意组合。其制备方法是在洁净的基体衬底上采用PVD真空镀膜或CVD镀膜工艺制备获得。本发明制备得到的薄膜相比丝印油墨法制备的涂层,薄膜的台阶覆盖性好,良率高,材料省。并且所制得的黑色绝缘薄膜厚度小于0.5μm就可达到透光率小于0.1%和薄膜方块电阻大于300M欧的特性,外观光亮。并且该种方法制备过程节能环保,原材料无毒无害,成本低廉,易于大规模生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 黑色 绝缘 薄膜 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种黑色绝缘薄膜元件,包括基体衬底和设置于其表面的黑色绝缘薄膜层,其特征在于:所述的基体衬底为需镀膜的元件,其材料为金属、玻璃、陶瓷、高分子聚合物、或复合材料;所述的黑色绝缘薄膜层包含镍、铁、铜或铝中任一种金属的氧化物,或几种金属氧化物的任意组合;所述的黑色绝缘薄膜层的透光率小于0.1%,薄膜的方块电阻大于300兆欧;
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