[发明专利]关键环境中受控的稀释流有效
申请号: | 201610319533.5 | 申请日: | 2016-05-12 |
公开(公告)号: | CN106152395B | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | K·哈格斯特罗姆 | 申请(专利权)人: | 霍尔顿公司 |
主分类号: | F24F11/74 | 分类号: | F24F11/74;F24F11/79 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 胡春光;张颖玲 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明描述了一种受控的稀释流体流动模式。在实施例中,流体供应设备被配置用于控制关键房间内流体的流动模式。所述关键房间包括收受到污染的关键区域。第一流体供应喷嘴被配置用于提供第一流体供应喷流以朝向所述关键区域的大致中心提供所述流体的第一流动。第二流体喷嘴被配置用于提供第二流体供应喷流以朝向所述房间的周边提供所述流体的第二流动。对所述第一流体供应喷流的动量和所述第二流体供应喷流的动量进行调节以便通过所述第一流动对所述关键区域的大致中心进行冲洗并且大体上阻止了所述第二流动渗透到所述关键区域的所述大致中心。在其他实施例中,伴随所述设备的特征讨论了一种HVAC系统和方法。 | ||
搜索关键词: | 关键 环境 受控 稀释 | ||
【主权项】:
一种流体供应设备,所述流体供应设备被配置用于控制关键房间内流体的流动模式,其中所述关键房间包括受到污染的关键区域,所述流体供应设备包括:第一流体供应喷嘴,其中所述第一流体供应喷嘴被配置用于提供第一流体供应喷流以朝向所述关键区域的大致中心提供所述流体的第一流动;第二流体供应喷嘴,其中所述第二流体供应喷嘴被配置用于提供第二流体供应喷流以朝向所述房间的周边提供所述流体的第二流动;其中所述第一流体供应喷流的动量和所述第二流体供应喷流的动量被调节,以便所述关键区域的大致中心被所述第一流动冲洗,并且所述第二流动进入所述关键区域的所述大致中心的渗透大体上被阻止。
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