[发明专利]一种冬瓜的高产栽培方法在审
申请号: | 201610293299.3 | 申请日: | 2016-05-06 |
公开(公告)号: | CN105940905A | 公开(公告)日: | 2016-09-21 |
发明(设计)人: | 吴敏 | 申请(专利权)人: | 吴敏 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 238000 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种冬瓜的高产栽培方法,所述栽培方法包括:栽培地选择整地施基肥,条播,田间管理及追肥,病虫害防治等;本发明的栽培方法在播种前施撒沤锯末与石灰粉混合物进行灭杀地下病细菌及增强土壤疏松及保水性能,减少病虫害对冬瓜的侵害,以及播种时用雄黄拌种及覆盖草木灰,提高出苗率,出苗存活率达96%,再通过合理施基肥及追肥,科学的田间管理,同时配合物理及天敌防治病虫害等,使冬瓜苗期健壮,抗逆性强,果实个大,外形正,单重达20千克以上,亩增产15‑22%,品质好,产量高,收益显著增加。 | ||
搜索关键词: | 一种 冬瓜 高产 栽培 方法 | ||
【主权项】:
一种冬瓜的高产栽培方法,其特征在于,所述栽培方法包括如下:
选择偏碱性沙壤土,在初春时对土地深翻2‑3次,深度为30‑35厘米,间隔为一个月,每亩施放腐熟有机肥2100‑2500千克,复合肥30千克,并撒沤锯末与石灰粉混合物80‑90千克,混合重量比2:3,整平耙细作畦,畦宽3‑3.5米,畦沟深0.4‑0.5米,畦沟宽40‑50厘米,并在畦面上起双垄,垄宽0.8‑1米,垄高0.3米,垄间留浅沟,宽0.3米,深0.1米;
在畦面的双垄上进行穴植,株距0.7‑0.8米,亩植500‑560株,行距大于1.5米,播种深度4‑4.5厘米,每穴种植1‑2颗,种子要平放,并覆薄层草木灰,然后浇透水,等待出苗;
除去田间杂草,定根保持土壤湿润,选晴天的早晨、傍晚浇水,浇水量要小,浇水要勤,每亩浇水1000‑1200千克,浇水间隔2‑3天,坐果前摘除侧蔓,每株冬瓜采取株距范围内环形引蔓,同时主蔓相隔7‑8节进行压蔓;
从播种到长至2片真叶时进行第一次追肥,15天后进行第二次追肥,每次追肥量为300‑400千克/亩沼液后,并喷洒1000‑1500千克水,在1‑2个瓜坐果后,追施15千克三元素复合肥和22千克速效氮肥进行混合追肥,并对冬瓜叶面喷水1000‑1400千克;
冬瓜进入抽蔓期,就浇1‑2次透水,畦沟内应有积水,开花期保持土壤含水分30‑40%,果实膨大期保持土壤水分65‑70%;
在冬瓜生长期采用物理防治及利用天敌防治病虫害,降低病虫害侵扰培育壮苗。
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