[发明专利]一种平面形式的频率复用的天线副反射面有效

专利信息
申请号: 201610244860.9 申请日: 2016-04-20
公开(公告)号: CN105914474B 公开(公告)日: 2019-07-26
发明(设计)人: 何应然;武彦飞;张文静;杜彪;吴建明 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十四研究所
主分类号: H01Q15/00 分类号: H01Q15/00;H01Q15/14;H01Q3/30;H01Q19/19
代理公司: 河北东尚律师事务所 13124 代理人: 王文庆
地址: 050081 河北省石家*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明涉及一种平面形式的频率复用的天线副反射面。该副反射面包含两个功能层,分别是频率选择层和移相层。频率选择层对前馈馈源是全透射的,对后馈馈源是全反射的。后馈馈源照射移相层后,电磁波的反射相位发生变化,使反射波的相位中心与天线主反射面的焦点重合。该副反射面的两个功能层共同作用,实现主反射面的频率复用。本发明避免加工曲面形式的频率选择层,可以提高产品的成品率。
搜索关键词: 一种 平面 形式 频率 天线 反射
【主权项】:
1.一种平面形式的天线副反射面,其特征在于:包括平面结构的频率选择层(1)和平面结构的移相层(2),所述的频率选择层(1)与移相层(2)为平行设置且两者之间为非导电介质;所述的频率选择层(1)由第一介质板(1‑1)和印刷在第一介质板一侧表面的多个结构相同的第一金属微结构单元(1‑2)组成,多个第一金属微结构单元(1‑2)为阵列排布;所述的移相层(2)由第二介质板(2‑1)和印刷在第二介质板一侧表面的多个第二金属微结构单元(2‑2)组成,多个第二金属微结构单元(2‑2)的中心与多个第一金属微结构单元(2‑1)的中心一一对齐;所述的第二金属微结构单元(2‑2)的移相角度的计算公式为:其中,f为后馈馈源(4)的工作频率,c为光速,r为副面上某点到副面中心的距离,d1为后馈馈源相位中心到副反射面的距离,d2为副反射面到主面焦点的距离。
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